1972年，武汉无线电元件三厂编写的《光刻掩模版的制造》，并成功研发GK-3和GK-4，把加工圆片直径从50毫米提高到75毫米。

而清华大学研制第四代分步式投影光/刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平，1982年科学院研发KHA-75-1光/刻机，跟当时佳能相比最多也就不到4年。