EUV光刻机就是比DUV光刻机更加高级的，精度可以达到3纳米，而DUV光刻机的精度只能到28纳米，这是完全不同技术水平的设备，对于国内的半导体来说，研发出EUV光刻机就相当于把一块机械手表所有的零件扔到大会海里然后靠着海水的冲击力将他自然还原的概率还要小。

周川说道：“那我们明天晚上见面聊聊吧！”

其实他主要是想跟李西妍见面，想看看美女，至于什么3纳米光刻机，他根本就不听进去。