“孙宇同志，抛光液的问题，我有个猜测。”郑昊指着实验记录，“你们的配方里，是不是忽略了pH值这个关键参数？”

“pH值？”孙宇一愣。

“没错。”郑-昊解释道，“二氧化硅磨料在不同的酸碱环境下，表面的电荷是不同的。只有在特定的pH值下，它才能和硅片表面形成一种微弱的静电排斥力，让磨料颗粒悬浮在液体中，均匀地作用于硅片表面，而不是直接砸在上面造成划痕。我建议，你们试试在抛光液里加入一些氨水，把pH值精确地控制在10到11之间。”